Chłodzenie podłoża

Chłodzenie podłoża

Proces utwardzania promieniami UV jest energochłonny i powoduje zarówno bezpośrednie, jak i pośrednie nagrzewanie podłoża, które w większości przypadków należy kontrolować. Ze względów bezpieczeństwa, pewna forma bariery za docelowym podłożem jest niezbędna do ochrony maszyny i jej operatorów, aby osłaniać i rozpraszać promieniowanie z lampy. Trzy najczęstsze metody spełnienia obu tych wymagań to:

• Radiatory chłodzone powietrzem
• Radiatory chłodzone wodą
• Wałki chłodzące

Tam, gdzie przetwarzany jest materiał na wałku, najczęściej stosowanym rozwiązaniem jest wytłaczana aluminiowa płyta radiatora. GEW oferuje bardzo zgrabne rozwiązanie, które jest zintegrowane z głowicą lampy UV i może być chłodzone powietrzem lub wodą, w zależności od zastosowania. W przypadku większości procesów ta metoda jest bardzo skuteczna, chyba że stosuje się materiały bardzo wrażliwe na ciepło.

Do etykietowania, pakowania i innych procesów produkcyjnych coraz częściej wybiera się syntetyczne materiały polimerowe, które stają się coraz cieńsze ze względów ekonomicznych i ekologicznych. To jednak oznacza również, że stają się one stopniowo bardziej wrażliwe na ciepło. Wielu producentów maszyn drukarskich lub powlekających zareagowało, instalując chłodzone wałki do mocowania lamp UV w miejsce zwykłej płyty radiatora.

Tam, gdzie materiały wrażliwe na ciepło muszą być utwardzane promieniami UV na prasie lub linii do powlekania bez własnych wałków chłodzących, GEW może dostarczyć głowice lamp UV z własnym, precyzyjnie zaprojektowanym, zintegrowanym wałkiem chłodzącym. Wstęga może wtedy pozostawać w stałym kontakcie z wałkiem, gdy przechodzi pod lampą UV, podczas gdy wałek podtrzymuje materiał i odprowadza ciepło z procesu utwardzania, pozostawiając gotowy produkt w nieskazitelnym stanie i dokładnie zadrukowany.